国度常识产权局信息泄漏，零点教唆有限公司苦求一项名为“包括机械特征和光子特征的结构”的专利，公开号CN121969967A，苦求日历为2024年8月。

专利节录泄漏，本公开的示例提供一种结构，包括：光子集成电路（PIC）层，其中，在所述PIC层中造成有至少一个第一罅隙，以规则至少一个第一部分，况且所述PIC层包括一个或多个光学结构，每个光学结构具有对应的光场，况且位于所述至少一个第一罅隙中的一个第一罅隙的一侧且与所述PIC层的至少一个第一部分中的一个第一部分相对；微机电系统（MEMS）结构层，包括悬置在所述PIC层的至少一个第一部分隔邻况且由所述MEMS结构层中至少一个第二罅隙规则的MEMS结构，凤凰彩票welcome所述MEMS结构在力或扰动的作用下可偏转；以及放肆层，被嘱托为将所述PIC层的至少一个第一部分与所述MEMS结构层的至少一个第一部分差异，其中，枯竭所述放肆层的第一部分使得所述至少一个第一罅隙与所述至少一个第二罅隙重叠；其中，所述PIC层的至少一个第一部分机械耦合至所述MEMS结构，以凭证所述MEMS结构的偏转进行出动；况且其中，所述至少一个第一部分与所述一个或多个光学结构中的一个光学结构之间的间距变化导致所述光学结构的光场特质发生变化。所述结构还包含至少一个耦合元件，所述至少一个耦合元件提供所述PIC层的至少一个第一部分与所述MEMS结构之间的机械耦合。所述至少一个耦合元件包括至少一个第一耦合元件，所述至少一个第一耦合元件造成于穿过所述至少一个第一部分中的一部分至所述MEMS结构的一部分的通孔中。本公开的示例还提供一种制造结构的步伐。

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